Name: Kem Chống Nắng Trang Điểm Phục Hồi Da Sau Tổn Thương Easydew RX Post Laser Mineral BB Cream SPF46 40ML
Brand: Easydew
SKU: EAP004
Price: 1100000 VND
Availability: InStock
Rating: 5 (5 reviews)

Kem Chống Nắng Trang Điểm Dành Cho Da Nhạy Cảm, Phục Hồi Da Sau Tổn Thương Easydew RX Post Laser Mineral BB Cream SPF46 40ML

Easydew RX Post Laser – Hỗ Trợ Chăm Sóc & Phục Hồi Da Nhạy Cảm

Easydew là thương hiệu dược, mỹ phẩm cao cấp đến từ Hàn Quốc, được nghiên cứu và phát triển bởi Daewoong Pharmaceutical – tập đoàn dược phẩm hàng đầu với hơn 60 năm kinh nghiệm trong lĩnh vực chăm sóc da. Kem chống nắng

Easydew RX Post Laser là sản phẩm hỗ trợ chăm sóc làn da sau các liệu trình chuyên sâu, giúp bảo vệ và cung cấp độ ẩm cần thiết, mang đến cảm giác dễ chịu cho da. Công thức chứa DW-EGF (sh-Oligopeptide-1) – yếu tố tăng trưởng biểu bì được cấp bằng sáng chế, kết hợp với các thành phần dưỡng ẩm như Centella Asiatica Extract (rau má) và Sunflower Seed Oil (dầu hạt hướng dương), giúp làn da trông mềm mại và khỏe mạnh hơn.

Picare – Nhà phân phối chính hãng Easydew tại Việt Nam, cam kết mang đến sản phẩm chất lượng, an toàn và phù hợp với nhu cầu chăm sóc da chuyên sâu.

1. Công dụng nổi bật

Hỗ trợ bảo vệ da khỏi tác động của tia UVA, UVB với chỉ số SPF 46, PA++.
Hỗ trợ cung cấp độ ẩm cần thiết, giúp làn da trông mềm mại và mịn màng hơn.
Kết cấu mỏng nhẹ, dễ tán đều, tạo lớp nền tự nhiên, phù hợp với nhu cầu trang điểm nhẹ nhàng.
Giúp duy trì hàng rào bảo vệ da, hạn chế ảnh hưởng từ môi trường bên ngoài.
Sản phẩm được yêu thích nhờ kết cấu mịn màng, mang lại cảm giác dễ chịu khi sử dụng.

2. Thành phần chính

DW-EGF (sh-Oligopeptide-1): Thành phần nghiên cứu đặc biệt hỗ trợ duy trì hàng rào bảo vệ da.
Centella Asiatica Extract (Rau má): Hỗ trợ làm dịu và cung cấp độ ẩm cần thiết cho làn da.
Sunflower Seed Oil (Dầu hạt hướng dương): Thành phần thực vật giúp da trông mềm mại hơn.
Phytosphingosine: Hỗ trợ duy trì độ ẩm tự nhiên trên da.
Saccharide Isomerate: Thành phần cấp ẩm chuyên sâu, giúp da trông căng mịn hơn.
Sodium Ascorbyl Phosphate (Vitamin C): Thành phần chống oxy hóa, hỗ trợ bảo vệ da khỏi tác động từ môi trường.
Tocopherol (Vitamin E): Hỗ trợ duy trì độ ẩm và giúp làn da trông rạng rỡ hơn.
Water, Cyclopentasiloxane, Titanium Dioxide (CI 77891), Ethylhexyl Methoxycinnamate, Cyclohexasiloxane, Glycerin, PEG-10 Dimethicone, Dicaprylyl Carbonate, Zinc Oxide (CI 77947), Butylene Glycol, Niacinamide, Pentylene Glycol, Sodium Chloride, Phenyl Trimethicone, Disteardimonium Hectorite, Methyl Methacrylate Crosspolymer, Iron Oxides (CI 77492), Cetyl PEG/PPG-10/1 Dimethicone, Glyceryl Behenate/Eicosadioate, Sorbitan Sesquioleate, Phenoxyethanol, Iron Oxides (CI 77491), Iron Oxides (CI 77499), Aluminum Hydroxide, Stearic Acid, Triethoxycaprylylsilane, Fragrance(Parfum), Dimethicone, Caprylic/Capric Triglyceride, Alcohol Denat, Dimethicone/Vinyl Dimethicone Crosspolymer, Ethylhexylglycerin, Adenosine, Trisodium Ethylenediamine Disuccinate, Hydrogenated Lecithin, Hydrogenated Castor Oil Isostearate, BHT, Potassium Cetyl Phosphate, Tocopherol, Phytosphingosine, Helianthus Annuus (Sunflower) Seed Oil, Saccharide Isomerate, Disodium EDTA, Sodium Ascorbyl Phosphate, Centella Asiatica Extract, sh-Oligopeptide-1, Citric Acid, Sodium Citrate.

3. Hướng dẫn sử dụng

Sử dụng sau bước dưỡng da và trước khi ra ngoài.
Lấy một lượng sản phẩm bằng hạt ngọc trai, thoa đều lên da và vỗ nhẹ để thẩm thấu tốt hơn.

4. Cách bảo quản sản phẩm

Đậy kín sau khi sử dụng để bảo vệ chất lượng sản phẩm.
Bảo quản nơi khô ráo, thoáng mát, tránh ánh nắng trực tiếp.
Để xa tầm tay trẻ em.

5. Vì sao nên chọn Easydew RX Post Laser?

Thương hiệu dược mỹ phẩm uy tín từ Hàn Quốc, được nghiên cứu bởi Daewoong Pharmaceutical.
Sản phẩm được sử dụng rộng rãi tại các viện thẩm mỹ, spa và phòng khám da liễu.
Ứng dụng công nghệ tiên tiến với thành phần DW-EGF tinh khiết, giúp hỗ trợ chăm sóc làn da sau các liệu trình chuyên sâu.
Công thức an toàn, không gây kích ứng mạnh, phù hợp với nhiều loại da.
Sản phẩm đạt giải thưởng FIRST BRAND AWARDS tại Hàn Quốc trong nhiều năm liên tiếp.